ЭЛЕКТРОННО-ИОННО-ПЛАЗМЕННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ РЕАЛИЗАЦИИ ПРОЦЕССОВ МОДИФИКАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ МАТЕРИАЛОВ И ИЗДЕЛИЙ

DOI 10.31554/978-5-7925-0655-8-2023-42-49

ЭЛЕКТРОННО-ИОННО-ПЛАЗМЕННОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ РЕАЛИЗАЦИИ ПРОЦЕССОВ МОДИФИКАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ МАТЕРИАЛОВ И ИЗДЕЛИЙ

Коваль Н. Н., Ахмадеев Ю. Х., Денисов В. В., Шугуров В. В., Островерхов Е. В.
Институт сильноточной электроники СО РАН (ИСЭ СО РАН)
634055, Томск, пр. Академический, 2/3, Россия
E-mail: koval@opee.hcei.tsc.ru

Рассмотрен ряд новых и модернизированных в последние годы вакуумных ионно-плазменных электро­физических установок для создания плотной низкотемпературной плазмы в значительных (>0,25 м³) объёмах, а также комплексная установка, сочетающая пучковый и плазменный модули для проведения различных процес­сов электронно-ионно-плазменной модификации поверхности материалов и изделий с целью улучшения её функциональных свойств. Приведены примеры процессов модификации с использованием разработанного обо­рудования, а также результаты по улучшению свойств модифицированных поверхностей.