DOI 10.31554/978-5-7925-0655-8-2023-50-55
ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ИМПУЛЬСНЫХ УСКОРИТЕЛЕЙ ИОНОВ
Ремнев Г. Е., Бухаркин А. А., Журавлев М. В., Курапов Г. А., Рыжков В. А., Степанов А. В., Шаманин В. И.
Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ФГАОУ ВО НИ ТПУ) 634050, Томск, пр. Ленина, 30, Россия
E-mail: remnev@tpu.ru
Источники мощных ионных пучков наносекундной длительности требуют применения импульсных источников плазмы высокой плотности ~1014 см-3. В статье анализируется использование для этих целей плазмы поверхностного пробоя диэлектрических вставок, плазмы образование которой сопровождает взрывную эмиссию электронов и плазмы, формируемой в газе пониженного давления осциллирующими электронами. Экспериментальные результаты получены на ускорителях наносекундной длительности с ускоряющем напряжением до 500 кВ, включая ускорители с 2-х импульсным режимом работы. Рассматриваются результаты экспериментальных исследований, полученные при прямом ускорении ионов в магнитоизолированных диодных системах и коллективное ускорение ионов из плотных плазменных сгустков электронными пучками в диоде Плютто — Люса. Энергия ускоренных ионов лежит в диапазоне 105-106 эВ, а для тяжелых ионов до нескольких МэВ.
