СРАВНИТЕЛЬНЫЙ АНАЛИЗ ПРОЦЕССОВ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ВАКУУМНОГО И ГАЗОВОГО МАГНЕТРОНА

DOI 10.31554/978-5-7925-0655-8-2023-157-165

СРАВНИТЕЛЬНЫЙ АНАЛИЗ ПРОЦЕССОВ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ВАКУУМНОГО И ГАЗОВОГО МАГНЕТРОНА

Бугаев А. С.1, Визирь А. В.1, Гушенец В. И.1, Николаев А. Г.1, Окс Е. М.1, 2, Фролова В. П.1, 2, Юшков Г. Ю.1
1 Институт сильноточной электроники СО РАН (ИСЭ СО РАН)
634055, Томск, пр. Академический 2/3, Россия
E-mail: oks@opee.hcei.tsc.ru
2 Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР)
634050, Томск, пр. Ленина 40, Россия

Представлен сравнительный анализ процессов функционирования и нанесения покрытий вакуумным и газовым магнетроном в частотно-импульсном режиме самораспыления с медной и серебряной мишенями. Осо­бенностью проведенных исследований является использование единого устройства, функционирующего при различных давлениях аргона: 2 10-3 Торр и 10-5 Торр. Сравнение характеристик устройства при таких давлени­ях и свойств полученных покрытий на поверхности образцов показало их значительное сходство. На основе анализа полученных данных дано объяснение причин таких результатов.