DOI 10.30792/978-5-7925-0684-8-2026-47-52
ВЛИЯНИЕ ИНЖЕКЦИИ ЭЛЕКТРОНОВ НА МАСС-ЗАРЯДОВЫЙ СОСТАВ ПЛАЗМЫ МАГНЕТРОННОЙ РАСПЫЛИТЕЛЬНОЙ СИСТЕМЫ В РЕАКТИВНОМ РЕЖИМЕ
Шандриков М. В., Черкасов А. А., Окс Е. М., Бугаев А. С.
Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН)
634055, г. Томск, пр. Академический, 2/3, Россия
E-mail: shandrikov@hcei.ru
Представлены результаты экспериментального исследования непрерывной формы магнетронного разряда в реактивном режиме с дополнительной инжекцией электронов, ускоренных в катодном слое магнетронного разряда. В качестве рабочих газов использовалась смесь аргон-кислород. В качестве распыляемой мишени использовался тантал. Рабочее давление в данной работе варьировалось в диапазоне от 2 до 0.5 мТорр. Показано влияние дополнительной инжекции электронов на параметры плазмы, в т.ч. гистерезис напряжения магнетронного разряда и ионный состав плазмы при снижении рабочего давления.
