DOI 10.30792/978-5-7925-0684-8-2026-82-86
ИСПОЛЬЗОВАНИЕ СИНХРОТРОННОГО ИЗЛУЧЕНИЯ ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ IN SITU РОСТА МНОГОКОМПОНЕНТНЫХ ПЛЕНОК ПЕРЕМЕННОГО ЭЛЕМЕНТНОГО СОСТАВА МЕТОДОМ ПЛАЗМЕННО-АССИСТИРОВАННОГО ЭЛЕКТРОДУГОВОГО НАПЫЛЕНИЯ
Коваль Н. Н.1, Иванов Ю. Ф.1, Прокопенко Н. А.1, Петрикова Е. А.1, Воробьев М. С.1, Шмаков А. Н.2
1 Институт сильноточной электроники СО РАН (ИСЭ СО РАН)
634055, г. Томск, пр-т Академический, 2/3, Россия
2 Институт катализа им. Г.К. Борескова СО РАН
630090, г. Новосибирск, пр. Академика Лаврентьева, 5, Россия
E-mail: nn.koval@hcei.ru
Выполнены исследования процесса формирования пленок высокоэнтропийного сплава TiNbZrTaHf, легированного атомами меди. Исследования процесса роста пленок осуществляли in situ методом рентгенофазового анализа с высоким инструментальным разрешением с использованием синхротронного излучения (накопитель электронов ВЭПП-3, ИЯФ СО РАН). Формирование пленок осуществляли методами вакуумно-дугового плазменно-ассистированного осаждения на установке ВЭИПС-1, разработанной в ИСЭ СО РАН для исследования процессов формирования пленок и покрытий на источнике синхротронного излучения. Установлено, что, варьируя ток испарителя меди в пределах от 80 А до 30 А можно, управляя элементным составом, формировать многослойное состояние, структура которого изменяется от аморфной до столбчатой нанокристаллической. Выявлено многофазное (TiNbZrTaHfCu, CuZrTi, CuZr, Cu) состояние пленки и установлены временные интервалы формирования фаз.
