DOI 10.30792/978-5-7925-0684-8-2026-109-112
СИСТЕМЫ ГЕНЕРАЦИИ ПУЧКОВО-ПЛАЗМЕННЫХ ОБРАЗОВАНИЙ НА ОСНОВЕ РАЗРЯДОВ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ ДЛЯ РЕАЛИЗАЦИИ ПРОЦЕССОВ ПУЧКОВО-ПЛАЗМЕННОЙ ИНЖЕНЕРИИ ПОВЕРХНОСТИ МАТЕРИАЛОВ И ИЗДЕЛИЙ
Денисов В. В., Коваль Н. Н., Савчук М. В., Островерхов Е. В., Егоров А. О., Ковальский С. С., Подгорный И. В., Крившенко В. В., Яковлев В. В., Денисова Ю. А., Леонов А. А.
Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН) Россия
634055, г. Томск, проспект Академический, 2/3
E-mail: volodyadenisov@yandex.ru
Пучково-плазменное образование (ППО) представляет собой плазменную среду, основные свойства которой определяются пучком энергетичных частиц, инжектируемых в электроразрядную камеру. Проведены исследования эмиссионных спектров излучения ППО, формируемых в атмосфере аргона. Показано, что эмиссионные спектры плазменных образований в атмосфере аргона при напряжениях горения (65-240) В не содержат линий излучения атомов распыленного материала (Fe, Cr) стенок полого катода. Показано, что в системе гене-рации протяженных газо-металлических пучково-плазменных образований, формируемых в полом катоде тлеющего разряда при одновременном горении вакуумно-дуговых разрядов низкого (≈ 0,5 Па) давления, оптимизация величины отношения площадей анода и катода позволяет достигать степени продольной неоднородности концентрации плазмы на длине около 1 м около ± 10%.
