DOI 10.30792/978-5-7925-0684-8-2026-143-146
РАЦИОНАЛИЗАЦИЯ РЕЖИМОВ ЭЛЕКТРОННО-ПУЧКОВОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ТИТАНОВОГО СПЛАВА ВТ-6
Галецкий И. А.1, Мишигдоржийн У. Л.1, Семенов А. П.1, Милонов А. С.1, Улаханов Н. С.1, Демин К. А.1, Москвин П. В.2
1 Институт физического материаловедения СО РАН (ИФМ СО РАН)
670047, Улан-Удэ, ул. Сахьяновой, 6, Россия
2 Институт сильноточной электроники СО РАН (ИСЭ СО РАН)
634055, Томск, пр. Академический, 2/3, Россия
E-mail: ivan.galetskiy@bk.ru
Представлены результаты отработки режимов электронно-пучковой обработки поверхности титанового сплава ВТ-6 с использованием модернизированного источника электронов на основе плазменного катода, позволяющего регулировать мощность пучка в течение импульса и тем самым обеспечивать управляемое термическое воздействие на поверхность. С целью модификации поверхностного слоя титанового сплава ВТ-6 предлагается удерживать на поверхности температуру в диапазоне 1600 °C. Для обеспечения данного диапазона температур ток разряда регулируется в пределах 20–100 А в течение импульса длительностью до 1000 мкс, количество импульсов – 3 (интервал между импульсами 3 секунды). Обработка электронным пучком при данных режимах приводит к формированию на поверхности ВТ-6 структуры с требуемой шероховатостью и отсутствием дефектов в виде кратеров и оплавлений.
